BAO Mask Avenger是一款非常實(shí)用的AE高級(jí)遮罩腳本，有了這款腳本，我們就可以直接在AE中控制和編輯Mask路徑和遮罩的頂點(diǎn)，同時(shí)在三維空間制作出路徑動(dòng)畫。

【功能特色】

　　拉姆預(yù)覽保護(hù)。以前版本的最大問(wèn)題是Ram預(yù)覽無(wú)效

　　通過(guò)插件。 Mask Avenger 2.0新的烘焙系統(tǒng)避免了這一點(diǎn)。

　　3D面具。 Mask Avenger現(xiàn)在可以在3D中控制蒙版，而無(wú)需使用空?qǐng)D層和表達(dá)式。

　　然后更快地計(jì)算掩模，并簡(jiǎn)化表達(dá)式寫入。

　　背景烘焙。當(dāng)需要修改蒙版時(shí)，蒙版復(fù)仇者會(huì)立即對(duì)其進(jìn)行轉(zhuǎn)換

　　當(dāng)前時(shí)間，并在后臺(tái)烘烤工作區(qū)域的其余部分。這意味著您可以繼續(xù)工作

　　而面具復(fù)仇者正在忙著烘焙。這取代了«Dynamic»和«bake»模式。

　　更好地塑造層兼容性。與“動(dòng)態(tài)”模式相關(guān)的錯(cuò)誤隨著新烘焙而消失系統(tǒng)。

　　工作區(qū)和圖層的持續(xù)時(shí)間不再影響Mask Avenger的計(jì)算速度。當(dāng)然，

　　烘焙100,000個(gè)關(guān)鍵幀需要超過(guò)10個(gè)，但新的烘焙系統(tǒng)允許您繼續(xù)工作

　　而它正在烘烤。

　　不再需要Mask Renderer。 Mask Avenger現(xiàn)在使用AE自己的掩蔽功能，運(yùn)行速度更快。

　　面具預(yù)覽。 Mask avenger 2.0有一個(gè)預(yù)覽系統(tǒng)，可以動(dòng)態(tài)地顯示它們之前的變化

　　適用于面具。這可以避免在表達(dá)式，其他圖層或相機(jī)修改蒙版時(shí)出現(xiàn)延遲。